Состав - Тональная основа Enough Collagen Moisture Foundation

Активные компоненты: 

Бета-глюкан. Полисахарид, обладающий большим спектром полезных свойств. За счет интенсивного увлажняющего эффекта, используется в антивозрастной косметике, а за счет защитного и противовоспалительного - в средствах для проблемной кожи.

Гиалуроновая кислота. Средство, поглощающее влагу даже из воздуха. Поддерживает гидробаланс кожи, насыщает ее влагой, не допускает обезвоживания.

Гидролизованный коллаген. Благодаря своим способностям собирать воду даже из воздуха, образующий защитный барьер коллаген поддерживает гидролипидный баланс кожи, подтягивает ее, давая почти мгновенный эффект лифтинга.

Экстракт центеллы азиатской. Безопасный антиоксидант, который к тому же обладает противовоспалительным, ранозаживляющим свойством. Помогает синтезировать коллаген и защищает от УФ-лучей.

Полный состав:

Water, , Cyclotetrasiloxane, Titanium Dioxide, Caprylic / capric triglyceride, glycerin, butyleneglycol, cetyl PEG / PPG 101 dimethicone, sorbitan sesquioleate, dimethicone\Vinyl dimethicone crosspolymer, dimethicone, ozokerite, sodium chloride, stearalkonium hector zolite, magnesium aluminum silicate, yellow iron oxide, phenoxyethanol, red iron oxide, black iron oxide, fragrance, triethoxycaprylyl Silane, water soluble collagen 0.1%, betaine, betaglucan, Centella asiatica leaf extract, sodium hyaluronate.